研究設備
Research Equipment from fabrication to characterization


メーカー:分光計器
型式:SM-250KB
設置場所:D1-105
機能: 太陽電池デバイスの分光感度特性または量子効率(IPCE)の計測に使用

Maker: Bunkoukeiki Co.,Ltd. Model: SM-250KB
Location: D1-105
Function: Measurement of incident photon-to-electron conversion efficiency (IPCE) of photoactive devices.

メーカー:分光計器
型式: OTENTO-SUN II型
設置場所:D1-105
機能: 擬似太陽光(AM 1.5G)照射下における太陽電池デバイスの光電変換効率の計測に使用

Maker: Bunkoukeiki Co.,Ltd.
Model: OTENTO-SUN II
Location:D1-105
Function: Measurement of power conversion efficiency of photovoltaics under (AM 1.5G)

メーカー:アルバック理工
型式:MILA-5000
設置場所:D1-105
機能: 真空または雰囲気ガスの制御下で赤外線ランプの光照射により急速加熱を行う装置

Maker: ULVAC-RIKO, Inc.
Model: MILA-5000
Location: D1-105
Function: Annealing rate of up to 50 degrees/sec from an infrared lamp under vacuum or controlled atmosphere.

メーカー:アルバック機工
型式:RMS-200
設置場所:D1-105
機能:加速したアルゴンイオンプラズマをターゲット材料に衝突させ,はじき出されたターゲット材料を基板上に薄膜として堆積させる装置。太陽電池の透明導電膜形成に使用

Maker: ULVAC KIKO, Inc.
Model: RMS-200
Location: D1-105
Function: Deposition of thin films of target materials by collision of accelerated Ar-ion plasma. Currently used sputter targets are ZnO, Al:ZnO, ITO, and Al.

メーカー:日本分光
型式:FT/IR-6300
設置場所:D1-401-1
機能: 赤外光の吸収波数から有機物,無機化合物試料中に存在する化学結合の種類を調べる装置。ダイヤモンドプリズムのATRアタッチメント使用可能

Maker: JASCO
Model: FT/IR-6300
Location: D1-401-1
Function: Chemical functional groups existing in organic or inorganic compounds can be detected from the wavenumbers of infrared light absorbed into the materials. ATR (attenuated total reflection) attachment with a diamond prism is available.

メーカー:日本分光
型式: NRS-1000
設置場所:D1-401-1
機能: 試料に照射されたレーザー光の散乱光の波長のずれ(ラマンシフト)から有機物,無機化合物試料中に存在する化学結合を調べる装置

Maker: JASCO
Model: NRS-1000
Location: D1-401-1
Function: Chemical functional groups existing in organic or inorganic compounds can be detected from Raman shifts: the change in frequency of scattered light from that of the incident laser light on samples. 

メーカー:Merck MILLIPORE
型式: Elix Advantage 5
設置場所:D1-401-1
機能: 水道水から不純物を除去し純水(抵抗率:15 MΩcm)を製造する装置

Maker: Merck MILLIPORE
Model: Elix Advantage 5
Location: D1-401-1
Function: Contaminants are removed from tap water. The resistivity of the purified water reaches up to 15 MΩcm, and we use it for preparing electrolyte solutions.

メーカー:Veeco
型式: Dektak 150
設置場所:D1-404
機能: 探針で試料表面をなぞり,表面の形状や粗さを計測する装置

Maker: Veeco
Model: Dektak 150
Location: D1-404
Function: Surface morphology and roughness can be measured by scanning the surface of samples with a stylus.

メーカー:島津製作所
型式:SPM-9700
設置場所:D1-406
機能: 探針(カンチレバー)が試料表面から受ける力を一定にする様にフィードバック制御により試料の高さを制御・計測することで,表面形状,表面電位などの情報を得ることが出来る。また,光照射下での表面電位マッピングが行える特別仕様となっている

Maker: SHIMADZU
Model: SPM-9700
Location: D1-406
Function: Surface morphology, potential, etc. of a sample can be measured by scanning the surface with a tiny probe on the tip of a cantilver. Several modes of measurement can be available, such as AFM (atomic force microscopy), KFM (Kervin probe force microscopy), and LFM (lateral force microscopy). It is specially customized to obtain mapping images of surface potential under light irradiation.

メーカー:日立ハイテクノロジーズ
型式: U-4100
設置場所:D1-406
機能: 紫外-可視-近赤外域の波長の光の透過率・吸収率・反射率を計測する装置。積分球付き。主に製膜した半導体材料のバンドギャップ計測に使用。

Maker: Hitachi High-Technologies
Model: U-4100
Location: D1-406
Function: Transmittance, absorbance, and reflectance of ultraviolet (UV), visible and near-infrared (NIR) light can be measured. It is equipped with an integrating sphere. It is mainly used for determining the optical bandgap energy of semiconductor materials.

メーカー:日立ハイテクノロジーズ
型式: F-7000
設置場所:D1-406
機能: 試料から発せられる蛍光の波長から,その材料中の電子のエネルギー状態についての情報を得る装置。主に半導体材料の欠陥準位の測定に使用

Maker: Hitachi High-Technologies
Model: F-7000
Location: D1-406
Function: Information about the energy states of electrons in samples can be obtained from the wavelength of fluorescent light emitted from the samples. We mainly use it for determining defect levels and exciton levels in semiconductor materials.

メーカー:アルバック機工
型式: VPC-1100
設置場所:D3-106
機能: 電子ビーム加熱による蒸着で基板上に薄膜を形成する装置。抵抗加熱による蒸着も同時に可能

Maker: ULVAC KIKO, Inc.
Model: VPC-1100
Location: D3-106
Function: Materials heated by electron beam are evaporated and deposited onto substrates, forming their thin films. Resistance heating is also available simultaneously.

メメーカー:アルバック機工
型式: VTS-350M/ERH
設置場所:D3-106
機能: 複数の抵抗加熱装置を備え,同時に複数の材料の蒸着による薄膜の形成が可能。有機半導体薄膜の形成に使用

Maker: ULVAC KIKO, Inc.
Model: VTS-350M/ERH
Location: D3-106
Function: Equipped with several resistance heating units, it can simultaneously evaporate multiple materials, forming their composite or layered films. We mainly use it for forming organic semiconductor films.

メーカー:アルバック機工
型式: VTS-350M/ERH
設置場所:D3-106
機能: 複数の抵抗加熱装置を備え,同時に複数の材料の蒸着による薄膜の形成が可能。有機半導体薄膜の形成に使用

Maker: ULVAC KIKO, Inc.
Model: VPC-260F
Location: D3-106
Function: Thin films can be formed by resistance-heating evaporation. We mainly use it for the formation of metal layers for electric contacts.

メーカー:Diener Electronic
型式:Femto PCCE
設置場所:D3-106
機能:プラズマ照射により基板表面に付着した汚染物質を除去し清浄化する装置

Maker: Diener Electronic
Model: Femto PCCE
Location: D3-106
Function: Irradiation of plasma removes contaminants adsorbed on the surface of substrates, forming clean suface.

メーカー:アルバック理工
型式: TGD9600S
設置場所:D1-401-1
機能: 加熱雰囲気下における試料の示差熱と重量変化とを同時に計測する装置

Maker: ULVAC-RIKO Inc.
Model: TGD9600S
Location: D1-401-1
Function: The difference in temperature between a sample and a reference material under elevated temperature can be measured simultaneously with the change in weight of the sample.